advanced e-beam resists; low-energy e-beam lithography; massively parallel mask-less electron beam lithography; non-CAR; CDL; charging; LWR; top-coat; etch transfer;
机译:弹道热电子发射器的开发及其在并行处理中的应用:真空中的有源矩阵大规模直接光刻技术以及溶液中的薄膜沉积
机译:电子投影和电子束直接写入光刻中的图像形成
机译:通过在模拟抗蚀剂上使用电子束直接写法和单一化学辅助离子束刻蚀步骤来制造单质衍射光学元件
机译:非CAR抗蚀剂和先进材料,用于大规模并行电子束直接写入过程集成
机译:通过液相外延生长的铌酸锂薄膜中的直接写入电子束亚微米域工程。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:照射电子束图案的原位直接可视化 未经处理的抗蚀剂使用原子力显微镜