full aperture polishing; non-uniformity; pad wear; kinematic analysis; wear density;
机译:化学机械抛光中垫的特性及垫磨损对材料去除均匀性影响的实验分析
机译:带有亚孔垫的自由磨料抛光的材料去除曲线的建模和分析
机译:化学机械平面化中调节参数对抛光垫表面不均匀性的影响
机译:抛光垫的粘弹性行为及其对抛光不均匀性的影响
机译:使用总体平衡模型对化学机械抛光中的垫磨损和垫修整进行建模。
机译:碳纤维增强的制动蹄片复合材料的显微组织分析和磨损性能
机译:化学机械抛光中抛光垫磨损的建模
机译:用于路面防滑的变速摩擦测试仪和小轮圆轨磨损抛光机的实施。第二部分 - NCsU圆轨道磨损和抛光机操作手册。