机译:基于氧化镧/氧化硅的栅极堆叠性能增强由于CMOS应用的超氧氮化物界面引起的增强
机译:超薄ALD HfSiON覆盖层在SiON介电材料上针对低功耗应用的Ni-FUSI CMOS技术的应用
机译:PECVD形成用于CMOS技术的超薄氮化硅层
机译:超薄界面层(UTIL)形成及其在HKMG预期CMOS技术中的应用
机译:阴极致发光在等离子体纳米结构和超薄InAs量子层中的应用
机译:用于闪烁探测器应用的CMOS固态光电倍增器的进展
机译:过渡金属硅化物在先进CMOS技术中的新应用的实验和计算研究