Deep channel; microfluidics; micromixers; packaging; reactive ion etching;
机译:深度反应离子蚀刻参数对具有高纵横比极深硅蚀刻工艺蚀刻速率和表面形态的影响:
机译:使用ICP低温反应离子刻蚀工艺对硅进行浅而深的干法刻蚀
机译:使用ICP低温反应离子刻蚀工艺对硅进行浅而深的干法刻蚀
机译:用于微混合器装置制造的硅深蚀刻反应离子蚀刻工艺的研制
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:用于MEMS谐振装置制造的Z-Cutα石英的深反应离子蚀刻
机译:自掩膜硅纳米结构在深反应离子刻蚀工艺中的制备与应用