Boron; Doping; Implants; Plasmas; Probes; Silicon; Spectroscopy; 450mm; B dose mapping; LEXES; PIII; PULSION®; Shallow Probe;
机译:低能硼注入和尖峰退火形成的超浅结的稳定性/问题和解决方案
机译:注入能量对低剂量注入氧片分离微结构演变的影响
机译:通过基座辅助微波退火对低能硼注入和磷注入硅进行有效的掺杂活化
机译:450mm晶圆上低能量硼植入物的植入和计量溶液
机译:微波退火对低能离子注入晶圆的影响。
机译:超低能大剂量硼注入Si(110)的化学状态和原子结构演变
机译:掺杂剂剂量计量对于使用电子诱导的X射线光谱法在图案尺寸尺度下的超浅注入晶片
机译:从超低能量硼注入中硼增强硼的扩散