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Design technology co-optimization for 10 nm and beyond

机译:针对10 nm及更高波长的设计技术共同优化

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摘要

Silicon-based integrated circuits technologies have reached the extreme level to satisfy the demand of the present society. This requires design technology co-optimization and introduction of new semiconductor materials. The three papers in this session address various facets of technologies for 10 nm and beyond.
机译:基于硅的集成电路技术已达到极端水平,以满足目前社会的需求。这需要设计技术协同优化和引入新的半导体材料。本次会议中的三篇论文解决了10纳米及以后的各种技术方面。

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