193 nm; metrology; ArF; iArF; EUV; photoresist; shrinkage; CD-SEM; slimming;
机译:聚(烯烃砜)的极紫外(EUV)降解:有望用作EUV光刻胶
机译:通过薄膜传递方法在极端紫外(EUV)波长下的光致抗蚀剂吸收测量
机译:薄膜透射法在极紫外(EUV)波长下的光刻胶吸收测量
机译:16nm节点极端紫外(EUV)光致抗蚀剂靶标中的光致抗蚀剂收缩效应
机译:使用先进的计量学和拟合技术对极端紫外光刻光刻胶进行表征。
机译:极紫外光致抗蚀剂除气的表征方法
机译:薄膜透射法在极端紫外(EUV)波长下的光致抗蚀剂吸收测量