Training; Neural networks; Redundancy; Switches; Programming; Stability analysis; Robustness;
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机译:具有低工作电压的原子层沉积基于HfAlOx的RRAM可用于计算内存应用
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机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。