首页> 外文会议>China Semiconductor Technology International Conference >High Reflectance Contacts to P-type GaN Using Ag-La Alloys
【24h】

High Reflectance Contacts to P-type GaN Using Ag-La Alloys

机译:使用Ag-La合金对P型GaN的高反射率接触

获取原文

摘要

In this study, we have investigated a new Ag-La alloy contact to p-type GaN for producing high reflectance and low contact resistivity ohmic contacts. A low specific contact resistivity of 5.87×10~(-5) Ω cm~2 and high light reflectance of 85% at 460 nm could be obtained from Ag-La alloy contacts after annealed at 350 °C in air ambient. The formation of lanthanum oxide suppresses the Ag oxidation during annealing process and leads to a good ohmic contact with high reflectance. Additionally, compared with pure Ag contacts, the Ag-La alloy contacts show better thermal stability after a long thermal annealing at 300°C in air ambient.
机译:在这项研究中,我们研究了对P型GaN的新的Ag-La合金接触,用于产生高反射率和低接触电阻率欧姆触点。在350℃的空气环境中在350℃下退火后,在460nm下,低比接触电阻率为5.87×10〜(-5)Ωcm〜2和85%的高光反射率。氧化镧的形成抑制退火过程中的Ag氧化,并导致具有高反射率的良好欧姆接触。另外,与纯AG触点相比,Ag-La合金触头在空气环境中在300℃下的长热退火后显示出更好的热稳定性。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号