18H
Planarization; Corrosion inhibitors; Etching; Copper; Potassium; Slurries; Passivation;
机译:在化学气相沉积的CO膜的化学机械平坦化中作为互连应用的化学机械平坦化的钾油酸溶解剂
机译:山梨酸钾作为铜化学机械平面化浆料中的抑制剂。第二部分:山梨酸酯对化学机械平面化性能的影响
机译:过硫酸钾作为化学机械抛光浆料中的氧化剂,其与钴屏障层的铜互连相关
机译:电化学机械抛光中机械抛光对铜的影响
机译:铜化学机械抛光过程中化学溶解与机械磨损之间的协同作用。
机译:化学机械抛光实施后化学机械抛光对钛植入物表面性质的影响FT-IR和钛植入物表面的润湿性数据
机译:铜化学机械抛光过程中化学溶解与机械磨损之间的协同作用