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碘酸钾基抛光液对Mo化学机械抛光的研究

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本文首次研究了KIO3基抛光液对Mo的CMP性能.通过大量实验,得到最佳的KIO3浓度为0.1M,最佳的磨料浓度为5wt.％.实验发现,在0.1MKIO3,pH2的溶液中,Mo的静态腐蚀基本为零,但是却有最大的抛光速率.该抛光液具有非常好的抛光效率,抛光后表面有非常平整的粗糙度.

著录项

来源
《2013年海峡两岸平坦化技术研讨会》|2013年|157-161|共5页
会议地点天津
作者
曾旭; 徐敬博; 徐文忠; 鲁海生; 王敬轩; 屈新萍;
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作者单位

中国机械工程学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类有色金属及其合金;
关键词
钼金属; 化学机械抛光工艺; 碘酸钾基抛光液; 效果评估;

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