microlithography; overlay; focus; metrology; process control; critical dimension; scatterometry; opc matching; proximity;
机译:通过将邻近效应校正与灰度技术相结合,改善了电子束光刻中的CD控制和线边缘粗糙度
机译:解开线性跃迁偶极子在单个CdSe / ZnS量子点的带边缘发射中的作用:线性各向异性和散焦发射图案成像的组合
机译:解开线性跃迁偶极子在单个CdSe / ZnS量子点的带边缘发射中的作用:线性各向异性和散焦发射图案成像的组合
机译:联合覆盖,焦点和CD计量为前沿光刻
机译:聚焦,边缘检测和CCD相机特性描述,用于开发光学叠加校准标准。
机译:纳米压印光刻步进机用于批量生产前沿半导体集成电路
机译:纳米压印光刻步进用于前缘半导体集成电路的体积制造