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【2h】

Nanoimprint lithography steppers for volume fabrication of leading-edge semiconductor integrated circuits

机译：纳米压印光刻步进用于前缘半导体集成电路的体积制造

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S.V. Sreenivasan;
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年度 2017
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2. Fabrication of Uniform Gratings on Composite Semiconductors Using UV Nanoimprint Lithography [J] . Shugo Ishizuka, Masashi Nakao, Shinro Mashiko Journal of Photopolymer Science and Technology . 2009,第2期

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3. Fabrication of masters for nanoimprint, step and flash, and soft lithography using hydrogen silsesquioxane and x-ray lithography [J] . Ivan Junarsa, Paul F. Nealey Journal of Vacuum Science & Technology. B, Microelectronics and Nanometer Structures . 2004,第6期

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7. Fabrication of Uniform Gratings on Composite Semiconductors Using UV Nanoimprint Lithography [O] . Shogo Ishizuka, Masashi Nakao, Shinro Mashiko, 2009

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