Loading; Legged locomotion; Silicon; Etching; Logic gates; Sensitivity; Plasmas;
机译:黑色硅法-在轮廓控制下确定深硅沟槽刻蚀中基于氟的反应离子刻蚀参数设置的通用方法
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机译:使用高密度等离子蚀刻机进行硅微沟槽蚀刻
机译:用于亚14nmNode的微加载和宏到宏加载的硅沟槽蚀刻均匀性改进
机译:电感耦合等离子体刻蚀反应器中离子流和硅刻蚀速率的二维均匀性
机译:用于垂直晶体管应用的磷掺杂硅/硅锗多层结构的生长和选择性蚀刻
机译:黑硅方法:通过轮廓控制确定深硅沟槽蚀刻中氟基反应离子蚀刻机参数设定的通用方法
机译:用于监测氯 - 氦等离子体中多晶硅的等离子体蚀刻期间的蚀刻均匀性的光学诊断仪器。