机译:黑色硅法-在轮廓控制下确定深硅沟槽刻蚀中基于氟的反应离子刻蚀参数设置的通用方法
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机译:用蚀刻和沉积法对二氧化硅接触孔的等离子体蚀刻轮廓进行建模。
机译:使用两步金属辅助化学刻蚀方法由冶金级硅粉形成硅纳米线填充膜
机译:黑色硅方法:一种用于确定具有轮廓控制的深硅沟槽蚀刻中氟基反应离子蚀刻器的参数设置的通用方法
机译:具有极低掩模材料蚀刻速率的硅的反应溅射蚀刻