32nm half-pitch NAND FLASH; self-aligned double patterning (SADP); electrical testable structure;
机译:利用双图案光刻技术应对32nm半间距挑战
机译:具有EUV自对准双重图案化的关键亚30纳米间距Mx电平图案化的自对准阻挡集成演示
机译:使用测试模式将3D Sonos NAND闪存的迁移分析
机译:使用自对准双图案显示32nm半间距电气可测试NAND FlashPatterns的演示
机译:自对准双图案的蚀刻研究
机译:恒定和双重频率电刺激方式对膝伸肌力量产生的影响
机译:三个Litho-Process-Litho在32nm半间距节点处的2D双图案化方法