Isotropic etching; temperature dependence; MEMS; SF_6;
机译:使用基于HNA的蚀刻溶液在硅中以光学表面质量对深通道进行各向同性湿法化学蚀刻
机译:用离子束蚀刻结合单点金刚石蚀刻微型蚀刻微塑料蚀刻微塑料蚀刻的新方法及机理
机译:大气压等离子体烧结SiC蚀刻蚀刻轮廓与电压 - 电流形状的关系
机译:温度促进的ECR蚀刻用于各向同性SiC结构化
机译:模拟和比较3C-SiC,6H-SiC和4H-SiC纳米线的性能。
机译:用于制造直径小于20 nm的垂直纳米线阵列的SiGe新型干法选择各向同性原子层蚀刻。
机译:用M / NEMS应用的磁控施加反应离子蚀刻多晶3C-SiC蚀刻研究