机译:用于GaAs通孔蚀刻应用的具有反应性离子蚀刻系统的新型蚀刻技术
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机译:一种新型蚀刻技术,具有用于GaAs通孔蚀刻应用的反应离子蚀刻系统
机译:磁控型RIE蚀刻Poly 3C-SiC及其在表面微机械的应用
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:玻璃热电改性蚀刻的研究及其在结构蚀刻中的应用
机译:用于M / NEMS应用的3C-SiC缓冲层上沉积多晶AlN薄膜的特征
机译:磁控管增强型反应离子刻蚀III族氮化物半导体材料