机译:L1 0 sub>相FePt磁性介质制备的离子辅助等离子体刻蚀与掩埋掩模构图方法
机译:用于3d整体纳米结构的单步蚀刻掩模的制造方法
机译:勘误表:“在两个倾斜平面上对蚀刻掩模进行构图的方法,用于三维纳米和微加工” [J.真空科学技术。 B 29(6),061604(2011)]
机译:TaBO / TaBN EUVL掩模的新型蚀刻方法
机译:高度芳族单分子蚀刻掩模的抗蚀刻性机理和发展:迈向分子光刻。
机译:使用蚀刻和冲洗和自蚀刻粘合剂粘结的宫颈复合树脂修复体的边缘微渗漏:二维与三维方法
机译:在两个倾斜平面上对蚀刻掩模进行图案化的方法,用于三维纳米和微加工
机译:使用Zoneplate显微镜进行光化EUVL掩模成像的性能。