机译:L1 0 sub>相FePt磁性介质制备的离子辅助等离子体刻蚀与掩埋掩模构图方法
Department of Electrical and Computer EngineeringCenter for Micromagnetics and Information Technologies, University of Minnesota, Minneapolis, MN, USA;
Embedded Mask Patterning; Embedded mask patterning (EMP); Heat Assisted Magnetic Recording; Ion-assisted Plasma Etch; L10-FePt Media; L10-FePt media; heat-assisted magnetic recording; ion-assisted plasma etch;
机译:掩膜腐蚀对热辅助磁记录介质FePt图案化的影响
机译:嵌入式掩模图案化:制造FePt磁性介质的纳米图案化工艺
机译:嵌入式掩模图案化:制造FePt磁性介质的纳米图案化工艺
机译:L1
机译:超高密度磁记录介质:铁铂和相关三元合金膜中的A1至L1(0)相变
机译:利用CrV种子层的FePt图案化介质中的垂直磁各向异性
机译:嵌入掩模图形化(Emp)过程中等离子体刻蚀L10 Fept介质的分子动力学模拟研究
机译:通过湿法和干法蚀刻铬掩模进行图案转移制备锂铌酸盐中的光子晶体。