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机译:微光学和光刻模拟是掩模对准器中阴影印刷光刻的关键技术
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机译:通过面向3D光电路的基于掩模和无掩模的混合光刻工艺进行微光学制造
机译:由温度和浓度梯度驱动的吉布斯偏析合金:EUV光刻中潜在的掠射收集器光学器件。
机译:基于掩模的一步法光刻技术用于制造3D悬浮结构
机译:带有多层光罩的原子纳米光刻:粒子光学分析
机译:用于光刻世代的调试和EUV掩模显微镜达到8nm。