Ultraviolet lithography; Microscope; Actinic; Imaging; Zoneplate;
机译:基于相干衍射成像方法聚焦EUV聚焦的EUV显微镜的EUV掩模缺陷评估
机译:使用硅化物直接写入电子束光刻工艺制造用于DUV和EUV光刻的掩模
机译:使用现有光掩模制造能力制造用于EUV光刻的自对准交替相移光掩模的简单方法
机译:调试EUV掩模显微镜以实现8纳米以下的光刻技术
机译:具有掩埋缺陷的EUV光刻掩模的仿真和补偿方法。
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:新型EUV面罩吸收器评估支持下一代EUV成像