机译:用于EUV光刻光学的多层镀膜基底恢复层的反射率和表面粗糙度
机译:衬底粗糙度对超高压电子束蒸发和离子抛光生产的EUVL用Mo / Si多层光学器件的影响
机译:玻璃基板表面粗糙度对Mo / Si多层膜极紫外反射率的影响
机译:用于EUVL光学的基板恢复层:对多层反射率和表面粗糙度的影响
机译:用于X射线光学显微结构的超短周期W / B(4)C多层结构对反射率的限制。
机译:用于表面辅助激光解吸/电离质谱的金纳米颗粒多层膜的高性能样品基底
机译:EUVL系统的光学和多层涂层
机译:mo-si多层涂层光学元件的基板恢复。