首页> 外文会议>Electron Devices Meeting, 2005. IEDM Technical Digest. IEEE International >Thin body silicon-on-insulator N-MOSFET with silicon-carbon source/drain regions for performance enhancement
【24h】

Thin body silicon-on-insulator N-MOSFET with silicon-carbon source/drain regions for performance enhancement

机译:具有硅碳源/漏区的薄型绝缘体上硅N-MOSFET,可增强性能

获取原文

摘要

not avaliable
机译:无法使用

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号