capillary; Z-pinch; EUV; lithography; discharge; plasma; pulse;
机译:基于微波排放的高分辨率光刻的极端紫外线辐射源的前景
机译:不同dI / dt放电电流脉冲驱动的氙毛细管Z夹极端紫外光刻技术的特性
机译:光电导金刚石探测器的特性-光刻用候选真空紫外辐射和极紫外辐射光源探测器
机译:半导体光刻XE填充毛细血管放电极紫外线辐射源的研制
机译:强烈的毛细管放电等离子体极紫外光源,用于极紫外光刻和其他极紫外成像应用。
机译:极紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体的电子密度和温度的时间分辨二维分布
机译:光电导金刚探测器的表征 - 候选真空紫外线辐射和极端紫外线辐射光源检测器的光刻 -
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。