Isolated lines; Line and space (LS); Isolated hol3es; Dense holes; Mask error enhancement factor (MEF); 0.15- mu m KrF lithography;
机译:0.15-级单平衡亚谐波混合器设计的三导体耦合线180
机译:具有0.15-μm{rm m} $ CMOS技术的渐变结的低噪声雪崩光电二极管
机译:超低功率串联反馈分频器,在W波段使用0.15-μmu{rm m} $ GaAs pHEMT
机译:MEF对0.15 - MU M KRF光刻的影响
机译:超短脉冲KrF激光器的更高输出
机译:mu m和mu s mRNA的调节产量取决于mu s poly(A)位点使用和c mu 4到M1剪接的相对效率。
机译:通过KRF光刻中的电子束稳定改善CD精度。