机译:高纵横比应用的化学气相沉积硅化钨(WSix)
机译:化学气相沉积生长钨膜低温热退火法合成和表征氧化钨纳米棒
机译:微波等离子体增强化学气相沉积(MWPECVD)生长的多晶金刚石薄膜的特性,用于检测紫外线辐射
机译:化学气相沉积(CVD)生长钨硅化硅(WSIX)膜的表征
机译:对二氧化硅膜的热化学气相沉积(CVD)和多晶硅膜的高密度等离子体CVD过程中颗粒形成和传输的研究。
机译:WNxCy薄膜化学气相沉积前驱体钨基氨基胍基胍基钨配合物的合成与表征
机译:通过微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)沉积C-BN薄膜碳化物插入工具
机译:mOCVD(金属有机化学气相沉积)生长外延陶瓷氧化物薄膜的表征。