机译:使用来自相邻{100},{110}和{111}表面的数据重建各向异性蚀刻剂中硅的3D蚀刻速率分布
机译:通过垂直{111}侧壁形成U形金刚石沟槽,通过钻石(110)表面的各向异性蚀刻
机译:开发用于最大掩模蚀刻的过程配方和具有垂直侧壁的最大蚀刻速率,用于深度,高度各向异性电感耦合等离子体(ICP)蚀刻熔融二氧化硅的蚀刻
机译:金属二尿素对(110)Si各向异性蚀刻蚀刻速率选择性的影响(110)/(111)
机译:低能电子显微镜和扫描隧道显微镜研究锗在锗(111)和锗(110)上的生长以及锗(111),锗(110)和锗(001)上的银的生长
机译:球面光刻技术结合金属辅助化学刻蚀和各向异性化学刻蚀在Si(111)衬底上制造的三角形孔阵列
机译:球面光刻技术结合金属辅助化学刻蚀和各向异性化学刻蚀在Si(111)衬底上制备的三角形孔阵列
机译:高应变率下金属的塑性变形。第一部分温度对1100-0铝合金扭转静态和动态应力 - 应变特性的影响。