机译:13.5 nm的强等离子体放电源,用于极紫外光刻
机译:大功率EUV(13.5 nm)光源
机译:极紫外辐射(A = 13.5 nm)高功率放电源的开发进展
机译:高功率等离子体放电源在13.5nm和11.4nm的EUV光刻
机译:用于EUV光刻的液滴激光等离子体源的碎片表征和缓解。
机译:极紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体的电子密度和温度的时间分辨二维分布
机译:基于双流Xe / He烟气靶标的13.5 nm激光产生的等离子体EUV源的表征和优化
机译:利用等离子体电子微波源(pEms)概念开发战术高功率微波源