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Evaluation of the MEBES 4500 reticle writer to commercial requirements of 250-nm design rule IC devices

机译：评估MEBES 4500掩模版写入器对250 nm设计规则IC器件的商业要求

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《Photomask and X-Ray Mask Technology III》|1996年|p.438-451|共14页
会议地点
作者
Frank E. Abboud; Etec Systems; Inc.; Hayward; CA; USA; David Alexander; Etec Systems; Inc.; Hayward; CA; USA; Thomas P. Coleman; Etec Systems; Inc.; Hayward; CA; USA; Allen Cook; Etec Systems; Inc.; Hayward; CA; USA; Leonard Gasiorek; Etec Systems; Inc.; San Jose; CA; USA; Robert J. Naber; Etec Systems; Inc.; Hayward; CA; USA; F.Raymond; Etec Systems; Inc.; Hayward; CA; USA; Charles A. Sauer; Etec Systems; Inc.; Hayward; CA; USA.;
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中图分类无线电电子学、电信技术;
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