机译:通过厚膜光刻胶预保护提高微柱结构重整器的性能
机译:高分辨率光刻胶的设计:使用现代NMR技术评估光刻性能
机译:高分辨率光刻胶设计:使用现代NMR技术评估光刻性能
机译:用于高分辨率正性光刻胶(IV)的Novolak设计:用于高性能正性光刻胶的串联型线型酚醛清漆树脂
机译:具有光刻工艺的基于光阻的聚合物谐振器天线(PRA)和具有改进性能的介电谐振器天线(DRA)。
机译:芳基环氧热固性树脂的光刻性能作为微光学的阴性光致抗蚀剂
机译:设计高分辨率光刻胶:使用现代核磁共振技术评估光刻性能