【24h】

Implantation damage in InP: thermal stability effects

机译:InP中的植入损伤:热稳定性影响

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摘要

The decay of fast-neutron-induced V/sub p/ and P/sub In/ defects during conventional thermal isochronal anneals was monitored using conventional electron paramagnetic resonance. An optimum temperature for the removal of the lattice damage introduced by neutron irradiation in undoped InP is found at 450 degrees C. Annealing at higher temperatures reveals further bulk effects. During heat treatment, pinning of the Fermi level on the P/sub In//sup 0%+/ midgap level is observed.
机译:使用常规电子顺磁共振监测常规热等时退火过程中快中子引起的V / sub p /和P / sub In /缺陷的衰减。发现了用于消除由未掺杂的InP中的中子辐照引起的晶格损伤的最佳温度,该温度在450摄氏度下进行。在较高温度下进行退火显示出更大的体积效应。在热处理期间,观察到费米能级固定在P / sub In // sup 0%+ /中能隙能级上。

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