immersion; full-field; topcoat; uniformity; immersion specific defect; depth of focus;
机译:ArF水浸式光刻技术的后续产品:EUV光刻技术,多电子束无掩模光刻技术还是纳米压印技术?
机译:电子投影光刻工具的全场曝光性能
机译:用于ArF浸没式光刻的光刻性能的全场分析
机译:用于ArF浸没式光刻的全场曝光工具
机译:台式,全视野,光化显微镜,用于极端紫外线光刻掩模表征。
机译:溶剂浸渍压印光刻:高性能半自动程序
机译:偏振照明对45nm节点ArF浸没光刻法中高NA成像的影响
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。