EUV; hemicellulose; non-CAR; high etching resistance; PreMi; pre-exposure metal insertion; EB;
机译:高敏感性抗蚀性,对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:抵抗材料设计以提高EUV光刻的分辨率和灵敏度
机译:用于EUV光刻的高灵敏度纳米复合抗蚀剂
机译:改进的非汽车型半纤维素抵抗EUV光刻
机译:用于EUV光刻的液滴激光等离子体源的碎片表征和缓解。
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:开发用于EUV光刻的非CAR抗蚀剂的聚合物