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Layout design of metal-insulator-metal capacitor array for reducing parasitic influences

机译:金属-绝缘体-金属电容器阵列的布局设计,以减少寄生影响

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摘要

In this paper, a layout design of an accurate Metal-insulator-Metal (MIM) capacitor array for reducing parasitic influences is presented. Parasitic capacitance due to interconnecting wires is well-matched. Parasitic resistance can be reduced for less routing track used. Post layout simulation results show that percentage errors of capacitor ratios are generally 0.02% A 16-bit analog-to-digital converter (ADC) including MIM capacitor arrays shows 81dB of SFDR without capacitor mismatch calibration.
机译:本文提出了一种用于减少寄生影响的精确金属-绝缘体-金属(MIM)电容器阵列的布局设计。由于互连线而产生的寄生电容非常匹配。可以减少寄生电阻,以减少使用的布线路径。布局后的仿真结果表明,电容器比率的百分比误差通常为0.02%包含MIM电容器阵列的16位模数转换器(ADC)在没有电容器失配校准的情况下显示出81dB的SFDR。

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