Dry etching; Gases; Indium phosphide; Iterative closest point algorithm; Luminescence;
机译:氯离子在干法刻蚀过程中渗透到InP / InAsP量子阱结构中的证据以及诱导缺陷对电子和结构行为的影响
机译:结合反应离子束刻蚀和反应离子刻蚀在InAsP / InP膜中制造高质量因子光子晶体微腔
机译:干蚀过程在基于InP的量子阱光子结构中混合:光谱成像阴极发光研究。
机译:在干蚀刻过程中反应气体的效果下的INP / Inasp量子阱结构中的组成曲线。发光和模拟人士
机译:TOPO和TOPO-CDSE / ZNS量子点对INP / INASP / INPHERESTULUSTURE纳米线发光光学动力学的影响
机译:氯基干法蚀刻过程中的缺陷形成及其对InP / InAsP量子阱的电子和结构性质的影响
机译:具有渐变界面组分轮廓的半导体量子阱结构的光致发光线宽系统。 (重新公布新的可用性信息)。