III-V semiconductors; MOCVD; aluminium compounds; buffer layers; electron mobility; elemental semiconductors; gallium compounds; nucleation; semiconductor growth; semiconductor heterojunctions; semiconductor superlattices; silicon; two-dimensional electron gas; wide band gap semiconductors; 2D electron gas; AlGaN-AlN-GaN-Si; AlGaN-AlN-GaN-Si(111) heterostructure; AlGaN-GaN heterostructure epitaxy; GaN buffer deposition; crack-free AlGaN-AlN-GaN heterostructure stack; electron mobility; graded AlGaN; high temperature AlN nucleation layer; impedance spectroscopy; low temperature AlN interlayer; metal organic chemical vapor deposition; silicon(111) substrates; size 2 in; size 2 mum; superlattice AlN-GaN buffers;
机译:金属有机气相外延参数和Si(111)衬底类型对带薄型简单缓冲层的AlGaN / GaN HEMTs性能的影响
机译:直径为6英寸的Si衬底金属-有机气相外延系统上的高生长速率AlGaN缓冲层和用于AlGaN / GaN HEMT的低碳GaN的大气压生长
机译:氨分子束外延在100mm Si(111)上生长的AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管结构中GaN缓冲漏电流的研究
机译:Si(111)基材上的AlGaN / GaN异质结构外观的不同缓冲方法
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:使用不同缓冲层配置的200mm硅(111)衬底上的AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管结构研究
机译:在GaN缓冲的Si(111)衬底上生长的轴向(In,Ga)N / GaN纳米线异质结构中的晶格拉动效应和应变松弛
机译:m面alGaN / GaN和alInN / GaN异质结构的外延生长适用于常驻型GaN基板上的常关模式高功率场效应晶体管