NF3 in-situ cleaning; PFC reduction;
机译:在Novellus Concept 1介电PECVD工具上使用c-C4F8腔室清洁工艺优化工艺并降低PFC排放
机译:使用基于c-C4F8的PECVD腔室清洁化学物质减少PFC排放和气体消耗
机译:在蚀刻多层基板时使用RF电流谐波进行终点检测,并使用NF3放电清洁放电室
机译:稀释的N2在PECVD NF3原位腔室清洁中用于减少PFC的应用
机译:价的立体化学控制及其在减少NO和N2配位中的应用
机译:在蚀刻多层基板时使用RF电流谐波进行终点检测,并使用NF3放电清洁放电室