机译:等离子增强原子层沉积生长的ZnO薄膜:“原子层沉积窗口”内外的材料特性
机译:通过原子层沉积在硅上生长的超薄HfO_2膜用于先进的栅极电介质应用
机译:通过等离子体增强原子层沉积生长的BeO薄膜的介电性能得到改善
机译:通过原子层沉积生长的薄介电膜:性质和应用
机译:薄膜应用的分子工程:区域选择性原子层沉积(ALD)和分子原子层沉积(MALD)。
机译:四(二甲基氨基)锆和臭氧原子层沉积生长的高k ZrO2薄膜的结构和介电性能
机译:通过空心 - 阴极等离子体辅助原子层沉积生长AlN薄膜的导电和介电弛豫特性