机译:低能硼注入的硅中残留的电活性损伤:快速热退火和注入质量效应
机译:硅中低温BSi分子离子注入的快速热退火后的硼深度分布和残余损伤
机译:高温快速热退火后低剂量砷和硼注入的硅中残留缺陷的热行为
机译:低温团簇碳注入对快速热退火后损伤恢复的影响
机译:砷化镓晶体生长中缺陷,杂质和载体的特征及其对电性能,热稳定性和注入退火特性的影响。
机译:快速注热退火后注入低通量Si +的SiO2薄膜在室温下的光致发光位移
机译:室温的转移 - 低气+ -implanted的SiO2Films经受快速热退火的影响
机译:低温辐照和后续退火对热解碳和热解石墨的热扩散性的影响