chrome etch; optical emission spectroscopy; OES; endpoint detection; plasma diagnostics; terra; etec; applied materials; Cr;
机译:使用基于光化分析的光发射光谱数据和神经网络预测等离子体蚀刻过程
机译:使用Langmuir探针和发射光谱技术研究中空阴极反应离子蚀刻反应器中SF_6和SF_6 / O_2等离子体。
机译:Cu线爆炸的光发射和淬火过程:光谱研究
机译:研究CL_2,O_2和HE在光发射光谱中的铬蚀刻过程中的作用
机译:在使用Langmuir探针和光发射光谱法的深反应离子刻蚀系统中,等离子体表征和刻蚀速率以及通孔侧壁角度相关。
机译:傅里叶变换红外(FT-IR)透射光谱法光学测定绿茶中的铬绿
机译:光学发射光谱和质谱的主成分分析:神经网络在反应离子刻蚀过程参数估计中的应用
机译:监测Inp和Gaas在Cl2 / ar光学发射光谱和质谱分析中的蚀刻