optical proximity effect; OPE; exposure latitude; EL; scattering bar; SB; forbidden pitch;
机译:分析衍射图案以获得最佳辅助特征放置
机译:预测相移掩模中禁忌音调的解析公式
机译:用于预测阶段Shifu面膜中禁止间距的分析公式
机译:了解禁止的音高现象和辅助特征放置
机译:聚合物薄膜的基质辅助脉冲激光蒸发:了解材料喷射和表面特征形成
机译:临床特征和多层模子分子分析有助于了解患者对肾细胞癌抗PD-1 / PD-L1的反应
机译:反向光刻作为DFm工具:利用基于模型的辅助特征放置,快速光学邻近校正和光刻热点检测加速设计规则开发
机译:控制覆盖层布置对废弃地带台架上矿山土壤性质,植被恢复及间距X型火炬松幼苗生长的影响