extreme ultraviolet lithography; masks; mask blanks; multilayer coatings; error budgets;
机译:使用极紫外显微镜评估多层相缺陷上的极紫外光刻掩模吸收体图案
机译:极紫外光刻中16纳米半间距蚀刻多层掩模的掩模三维效应
机译:用于极端紫外线光刻的0.3数值孔径微曝光工具的亚衍射极限多层涂层
机译:极端紫外线光刻面具的多层涂层要求
机译:用于自然缺陷分析的极紫外光刻掩模版的局部掩模图案
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:超越紫外线的用于光刻的多层涂料的波长选择
机译:用于极紫外光刻的10x投影的多层涂层