application specific integrated circuits; elemental semiconductors; field effect transistors; ion implantation; molecular beam epitaxial growth; semiconductor device manufacture; silicon compounds; silicon-on-insulator;
机译:级联配置的3.3 kV双通道掺杂SiC垂直结场效应晶体管的静态和开关特性
机译:n通道垂直腔双异质结构光电开关激光器和异质结构场效应晶体管的演示
机译:绝缘体上应变硅衬底上应用Ge缩合技术制备的高绝缘体绝缘硅锗p沟道金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:有效沟道长度为30nm的Si和SiGe垂直双载流子场效应晶体管及其SOI电阻负载切换ASIC的制作
机译:基于N沟道InGaAsP-InP的倒置通道技术器件(ICT)的设计,制造和表征,用于光电集成电路(OEIC):双异质结光电开关(DOES),异质结场效应晶体管(HFET),双极倒置沟道场-效应晶体管(BICFET)和双极型反向沟道光电晶体管(BICPT)。
机译:Sub-20制造过程中的方差减少用于垂直栅全能金属氧化物半导体的nm Si圆柱纳米柱场效应晶体管
机译:具有薄硅覆盖层的伪非晶Si / SiGe / Si p沟道金属氧化物半导体场效应晶体管中的有效迁移率
机译:在蓝宝石上的500 a薄膜硅中制造具有0.2微米栅极长度的n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管。 (重新公布新的可用性信息)