机译:Taguchi法和灰色关联分析法优化c平面氮化镓化学机械平面化工艺参数
机译:抛光参数对使用SiO_2和Al_2O3磨料的C平面(0001)氮化镓表面化学机械平面化的影响
机译:山梨酸钾作为铜化学机械平面化浆料中的抑制剂。第二部分:山梨酸酯对化学机械平面化性能的影响
机译:氮化镓改进性能的化学机械平面化研究
机译:用于化学机械和电化学机械平面化的水溶液中铜,钽和氮化钽表面的电化学研究。
机译:调节剂类型和下压力以及垫表面的微观结构对SiO2化学机械平面化性能的影响
机译:在抛光镓砷化镓晶片后化学机械平坦化浆料中急性和慢性毒性胶体氧化钛纳米粒子
机译:新型碳化钽(TaC)衬底上低缺陷密度氮化镓(GaN)薄膜的生长,提高器件性能