机译:具有二氧化硅磨料颗粒的ILD CMP:CMP垫的孔径对去除速率分布的影响
机译:掺Nd3 +的胶体SiO2复合磨料:蓝宝石晶片的合成及其对化学机械抛光(CMP)性能的影响
机译:通过具有不同磨料粒径的十字图案抛光垫抛光蓝宝石晶片的磨料去除深度
机译:二氧化硅磨料大小对蓝宝石CMP性能的影响及其去除机制
机译:轨道抛光机中CMP无磨铜CMP的机械去除机理。
机译:稻壳合成的纳米二氧化硅上的聚电解质吸附:去除细菌的特性机理和应用
机译:Ag2O改性二氧化硅磨料的制备及其在蓝宝石上的化学机械抛光性能