cleaning; decomposition; infrared spectra; organic compounds; chemical vapour deposition; perfluorocarbon emission; CVD chambers cleaning gas; environment-atmosphere; infrared absorbance; decomposition time; current cleaning; dramatic reduction; C/sub 4/;
机译:使用基于c-C4F8的PECVD腔室清洁化学物质减少PFC排放和气体消耗
机译:在Novellus Concept 1介电PECVD工具上使用c-C4F8腔室清洁工艺优化工艺并降低PFC排放
机译:使用C4F8 / O-2 / Ar化学方法对氮化硅PECVD腔室进行远程等离子体清洗过程中,含氮添加剂气体对整体变暖气体排放的影响
机译:通过使用FMAT气体作为CVD腔室清洗气体减少PFCS排放
机译:加利福尼亚交通运输部门的温室气体排放量大幅减少:到2050年,车队和能源供应变化的动态将使1990年的排放量减少80%。
机译:MOCVD生长的全应变c平面InGaN /(In)GaN多量子阱中极化场强度的降低
机译:使用光发射光谱数据进行PECVD腔室清洁终点检测(EPD)