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使用过氧化氢作为主掺杂剂的共伴气体或吹扫气体进行原位清洁以尽量减少离子源中的积碳

摘要

本发明提供一种用于改善离子注入性能的离子源组件和方法。该离子源组件具有离子源腔室,并且源气体供应源向离子源腔室提供分子碳源气体。激发源激发分子碳源气体,形成碳离子和原子碳。引出电极从离子源腔室中引出碳离子,形成离子束。过氧化氢共伴气体供应源向离子源腔室提供过氧化氢共伴气体。过氧化氢共伴气体分解并与原子碳反应,在离子源腔室内形成碳氢化合物。进一步引入惰性气体并使其离子化,以抵消因过氧化氢分解所致的阴极氧化。真空泵除去碳氢化合物,其中减少原子碳的沉积并且延长离子源腔室的使用寿命。

著录项

  • 公开/公告号CN109716479B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 艾克塞利斯科技公司;

    申请/专利号CN201780057110.3

  • 发明设计人 尼尔·科尔文;哲-简·谢;

    申请日2017-09-27

  • 分类号H01J37/08(20060101);H01J37/317(20060101);

  • 代理机构11019 北京中原华和知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人刘新宇;寿宁

  • 地址 美国马萨诸塞州比佛利市

  • 入库时间 2022-08-23 12:29:46

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