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Are we there yet? - a metamorphic HEMT and HBT perspective

机译:我们到了吗? -变质的HEMT和HBT观点

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摘要

Metamorphic epitaxy technique offers the possibility of combining the advantages of low-cost and manufacturability of GaAs substrates and the high performance of InP-based devices. This paper presents the recent development of metamorphic HEMTs and HBTs and discusses their readiness for commercialization.
机译:变质外延技术提供了将GaAs衬底的低成本和可制造性优势与基于InP的器件的高性能相结合的可能性。本文介绍了变质HEMT和HBT的最新发展,并讨论了它们准备商业化的可能性。

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