首页> 外文会议> >Characterization of a planar RF induction plasma source for polymer film deposition processes
【24h】

Characterization of a planar RF induction plasma source for polymer film deposition processes

机译:用于聚合物膜沉积工艺的平面RF感应等离子体源的特性

获取原文

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号